Le nostre soluzioni termiche e le nostre forniture di alimentazione soddisfano i severi requisiti di processo di cleanroom e ultra-alta purezza (UHP) delle industrie dei semiconduttori e della lavorazione dei wafer.
Questi riscaldatori a immersione forniscono una distribuzione del calore pulita e uniforme per bagni fluidi in semiconduttori, applicazioni farmaceutiche e biomediche.Il loro design compatto offre la massima area di processo con il minimo consumo chimico.
Tutte le superfici bagnate sono dotate di materiali PFA, compatibili con serbatoi PVDF, PFA o quarzo.
Caldaie robuste disponibili in modelli a griglia, telaio e recinzione (output da 1,0 a 30,0 kW) con bassa densità di watt (≤ 4 watt/in2) per una risposta di riscaldamento rapida.
Caratteristica | Specificità |
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Elemento di riscaldamento | Coil di riscaldamento |
Superfici bagnate | PFA/PTFE |
Potenza | 1.0 - 20 kW |
Voltaggi | 120 - 480 VAC (1 o 3 fasi) |
Temperatura | 200°C (392°F) |
Sensore Hi-Limit | Termocoppia di tipo J |
Offriamo serbatoi, recipienti e miscelatori con rivestimento in PTFE personalizzati, resistenti agli acidi/alcali e ad alte temperature.
I nostri prodotti supportano processi di deposizione elettrochimica con uscita DC ad alta efficienza, affidabilità e certificazione ETL.
Serie di prodotti | Descrizione |
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Riscaldatore di fondo a manica in PTFE personalizzato con rialzatore flessibile (1000-6000W, 120-600V) |
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Scaldabagno a manica in PTFE con rialzatore flessibile (1000-6000W, 120-600V) |
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Elementi inossidabili 304 con manica in PTFE a forma di O (500-9000W, 120-600V) |