Unsere thermischen Lösungen und Stromversorgungen erfüllen die strengen Anforderungen an den Reinraum und die ultra-höheren Reinheitsprozesse (UHP) der Halbleiter- und Waferverarbeitungsindustrie.
Diese Tauchheizungen sorgen für eine saubere, gleichmäßige Wärmeverteilung für Flüssigkeitsbäder in Halbleiter-, pharmazeutischen und biomedizinischen Anwendungen.Das kompakte Design ermöglicht eine maximale Prozessfläche bei minimalem Chemikalienverbrauch.
Alle benetzten Oberflächen verfügen über PFA-Materialien, die mit PVDF-, PFA- oder Quarztanks kompatibel sind.
Robuste Heizgeräte, erhältlich in Raster-, Rahmen- und Zaunmodellen (1.0 bis 30.0 kW Leistung) mit geringer Wattdichte (≤ 4 Watt/in2) für schnelle Heizreaktionen.
Merkmal | Spezifikation |
---|---|
Heizungselement | Heizspule |
Befeuchtete Oberflächen | PFA/PTFE |
Wattmengen | 1.0 - 20 kW |
Spannungen | 120 - 480 VAC (1 oder 3 Phasen) |
Temperatur | 200°C (392°F) |
Hochgrenz-Sensor | Thermoelement des Typs J |
Wir bieten kundenspezifische mit PTFE ausgekleidete Tanks, Behälter und Mischer mit Säure-/Alkalibeständigkeit und hohem Temperaturvermögen an. Zu den verfügbaren Materialien gehören PTFE, PFA, FEP, ECTFE und PVDF mit Glasunterlage.
Unsere Produkte unterstützen elektrochemische Ablagerungsprozesse mit hocheffizienter Gleichstromleistung, Zuverlässigkeit und ETL-Zertifizierung.
Produktreihe | Beschreibung |
---|---|
![]() |
PTFE-Bodenheizung mit flexiblem Aufzug (1000-6000 W, 120-600 V) |
![]() |
PTFE-Bodenheizung mit flexiblem Aufzug (1000-6000 W, 120-600 V) |
![]() |
O-förmige Elemente aus PTFE mit 304 Edelstahlhüllen (500-9000 W, 120-600 V) |