Caldaie a semiconduttori in acciaio inossidabile N2 per asciugatura e pulizia di wafer di alta purezza

Il riscaldatore N2 in acciaio inossidabile è progettato per l'essiccazione di wafer ad alta purezza e le applicazioni di pulizia delle parti, compatibile con azoto, CDA (Clean Dry Air) o altri gas inerti ad alta purezza.con un contenitore in acciaio inossidabile 316L elettrolizzato con superfici bagnate passivateIl design compatto riduce al minimo l'impronta mentre offre un elemento di riscaldamento sostituibile, disponibile nei modelli che vanno da 375 watt a 3.000 watt.

Il modulo di riscaldamento brevettato incorpora un impianto sanitario a tre pinze che elimina i fili, riducendo significativamente l'intrappolamento di particelle e le potenziali aree di crescita batterica.Questo design superiore contrasta con i riscaldatori in acciaio inossidabile convenzionali che utilizzano tappi a vite, fili e ingombranti flange che possono intrappolare i contaminanti.

• Termocoppie ad alto limite e di processo per una precisa regolazione della temperatura
• Sensore di interruzione termica per prevenire il surriscaldamento
• Cavi di terra elettrici per la sicurezza
• Controllatore di temperatura basato su microprocessore opzionale nel telaio di commutazione esterno con classificazione NEMA

Offriamo una gamma di soluzioni rivestite in PTFE, tra cui serbatoi saldati, piccoli recipienti e miscelatori con varie opzioni di materiale (PTFE, PFA, FEP, ECTFE, PVDF) con supporto inciso o in vetro.Questi serbatoi hanno:

• Capacità di stoccaggio di acidi e alcali
• Resistenza alle alte temperature
• Opzioni di dimensionamento personalizzate
• Impianto di uscita e di entrata PFA facoltativo

Le nostre soluzioni di deposizione elettrochimica forniscono un processo economico che utilizza l'ossidazione e la riduzione per aderire il metallo alle superfici.

• Funzionamento di uscita di alimentazione a pieno regime
• Alta efficienza e uscita di corrente continua ad alta velocità
• Connettività affidabile
• Componenti certificati ETL