Halbleiterheizgeräte aus N2-Edelstahl für die Trocknung und Reinigung von hochreinen Wafern

Die N2-Heizung aus Edelstahl ist für die Hochaufbereitung von Wafern und die Reinigung von Teilen ausgelegt und kompatibel mit Stickstoff, CDA (Clean Dry Air) oder anderen inerten Gasen mit hoher Reinheit.mit einem elektropolierten Gehäuse aus Edelstahl 316L mit passivierter, benetzter OberflächeDas kompakte Design minimiert den Fußabdruck und bietet gleichzeitig ein austauschbares Heizelement, das in Modellen von 375 Watt bis 3.000 Watt erhältlich ist.

Das patentierte Heizmodul beinhaltet eine Sanitäranlage mit drei Klemmen, die Fäden eliminiert, was die Partikelbindung und mögliche Bakterienwachstumsflächen erheblich reduziert.Dieses überlegene Design steht im Gegensatz zu herkömmlichen Heizgeräten aus Edelstahl, bei denen Schraubenverschlüsse verwendet werden, Fäden und sperrige Flansche, die Verunreinigungen einfangen können.

• Höchstgrenz- und Prozessthermoelemente zur präzisen Temperaturregelung
• Wärmeabschnittssensor zur Verhinderung von Überhitzung
• Elektrische Erdungsleitungen zur Sicherheit
• Optionale microprocessorbasierte Temperaturregler in einem NEMA-bewerteten externen Schaltwerk

Wir bieten eine Reihe von PTFE-ausgekleideten Lösungen an, darunter geschweißte Tanks, kleine Behälter und Mischer mit verschiedenen Materialoptionen (PTFE, PFA, FEP, ECTFE, PVDF) mit geätztem oder Glasunterlage.Diese Tanks verfügen über:

• Speicherkapazität für Säure und Alkali
• Hochtemperaturbeständigkeit
• Benutzerdefinierte Größenoptionen
• Optional PFA-Aus- und Einlassinstallation

Unsere elektrochemischen Ablagerungslösungen bieten einen kostengünstigen Prozess, bei dem Oxidation und Reduktion verwendet werden, um Metall an Oberflächen zu haften.

• Leistung der Vollstromversorgung
• Hohe Effizienz und Hochgeschwindigkeits-Gleichstromleistung
• Zuverlässige Anbindung
• ETL-zertifizierte Komponenten